苹果在iPhone上已经使用了长达5年的刘海屏，虽然目前iPhone 13系列将刘海面积缩小，但是有效显示面积其实并没有增加太多，遮挡的情况依然严重。

一直以来，外界都希望苹果能早日实现屏下Face ID等技术，将刘海完全隐藏到屏幕下方，实现完全无开孔的效果，再配合上iPhone四边等宽的设计，视觉效果应该会非常出色。

从最新消息来看，这个梦想可能不远了。

据报道，近日美国专利商标局在4月5日已正式授予苹果一项新专利，该专利介绍中显示，其可以将Face ID组件影藏在屏幕下方，屏幕依然可以正常显示，面部识别也能正常工作，两不耽误。

不过需要注意的是，该专利是刚刚获批，这就意味着iPhone 14已经完全不可能搭载这项技术。

而按照苹果的超长产品规划时间来看，iPhone 15系列的一部分早期工作或许也已经开始，是有一些希望使用该技术的，但是考虑到目前只是专利获批，技术还尚未成型，在iPhone 15的开发周期内大概率无法调试完善。

从目前的状况来看，iPhone 16系列将会是最大概率会首发该技术的机型，可实现完全无开孔、无刘海，这也与此前分析师罗斯-杨和郭明錤的分析吻合。

至于iPhone 14系列，按照目前的多方消息称其已经开始试产，标准版两款机型将继续使用小刘海，Pro版则升级为“感叹号”打孔方案。

这也是5年来苹果首次向苹果动刀子，同样也被认为是苹果将要彻底抛弃刘海的标志。

关键词： 苹果屏下Face 苹果屏下指纹 苹果屏下摄像头专利 苹果屏下指纹解锁